- 供货总量:不限
- 价格说明:议定
- 包装说明:不限
- 物流说明:货运及物流
- 交货说明:按订单
真空电镀的工件表面必须保持干燥、光滑,否则会影响处理效果。
真空电镀可镀色彩丰富,可以镀7色,比水电镀的颜色要丰富,可达到阳极铝、亮铬、金、银、铜和炮铜(一种铜锡合金)等丰富多彩的效果。水电镀一般只有镀铜(红色),镀镍(偏黄的银色),镀金,镀银(黑色,有深黑,浅黑等),镀铬(银白色)等单调色彩。真空电镀是常见的金属表面处理技术。
离子镀
工艺关键词:真空气体放电、解离靶材、轰击基材
主要原理是利用气体放电现象,将薄膜材料解离成离子状态,而后沉积于基板上。
离子镀的基本镀膜系统为PVD系统,只是多加入反应性气体,使其与蒸发后的薄膜材料反应,而后沉积在基板上形成化合物,所以薄膜镀层的组成成分与原薄膜材料不同,是基材靶材的化合物。
离子镀基本上包括三个步骤 :
1. 将固态原子变成气态原子:可用真空蒸镀之各种蒸发源及各种溅射机制达到此一目的;
2. 将气态原子变成离子态,以提高原料的离子化程度(通常可达1%):可用各种离子元传送能量给原料原子,茶山真空电镀,以达到始之离子化的程度;
3. 提升离子态原料所带的能量以提高薄膜的品质:可在基本上加上适当负偏压,以达到加速离子的能力。
离子镀原理
离子镀的特点如下:
1. 离子镀可在较低温度600度下进行;
2. 附着性良好;
3. 绕射性良好-带电原子能达到基本的所有表面而沉积镀层;
4. 沉积速度快,可达1~5um,而一般二级板型溅射速度只有0.01~1.0um/min;
5. 加工性及薄膜材料的选择性广,可加工除金属外,陶瓷,玻璃 ,塑胶均可,真空电镀公司,而薄膜材料的选择也很广泛,金属,合金,化合物皆可。
真空电镀工艺可能遇到的问题及对策
1.蒸发速率对蒸镀涂层的性能影响
蒸发速率的大小对沉积膜层的影响较大。由于低的沉积速率形成的膜层结构松散易产生大颗粒沉积,为保证涂层结构的致密性,选择较高的蒸发速率是十分安全的。当真空室内残余气体的压力一定时,则轰击基片的轰击速率即为定值。因此,选择较高沉积速率后的沉积的膜内所含的残余气体会得到减小,从减小了残余气体分子与蒸镀膜材的化学反应。故,沉积膜的纯度即可提高。应当注意的是,沉积速率如果过大可能增加膜的内应力,致使膜层内缺陷增大,严重时可导致膜层破。特别是,在反应蒸镀过程中,为了使反应气体与镀膜材料粒子能够进行充分的反应,可选择较低的沉积速率。当然,真空电镀价格,对不同的材料蒸镀应当选用不同的蒸发速率。作为沉积速率低会影响膜的性能的实际例子,是反射膜的沉积。如膜厚为600*10-8cm,蒸镀时间为3S时,其反射率为93%。但是,如果在同样的膜厚条件下将蒸速率放慢,采用10min的时间来完成膜的沉积。这时膜的厚度虽然相同。但是,反射率已下降到68%。
2.基片温度对蒸发涂层的影响
基片温度对蒸发涂层的影响很大。高的基片温度吸附在基片表面上的残余气体分子易于排出。特别是水蒸气分子的排除更为重要。而且,在较高的温度下不但易于促进物理吸附向化学吸附的转变,从而增加粒子之间的结合力。而且还可以减少蒸汽分子的再结晶温度与基片温度两者之间的差异,从而减少或消除膜基界面的内应力。此外,由于基片温度与膜的结晶状态有关,在基片温度低或不加热的条件下,往往容易形成非结晶态涂层。相反在较高温度时,真空电镀加工厂家,则易于生成晶态涂层。提高基片温度也有利于涂层的力学性能的提高。当然,基片温度也不能过高,以防止蒸发涂层的再蒸发。
茶山真空电镀-瑞泓科技-真空电镀公司由深圳市瑞泓科技有限公司提供。“铝合金电镀,铝合金真空镀膜,铝合金真空钛金”选择深圳市瑞泓科技有限公司,公司位于:深圳市宝安区燕罗街道罗田社区广田路47号A栋405,多年来,瑞泓科技坚持为客户提供好的服务,联系人:杨小姐。欢迎广大新老客户来电,来函,亲临指导,洽谈业务。瑞泓科技期待成为您的长期合作伙伴!