真空电镀加工-瑞泓科技(在线咨询)-塘厦真空电镀

相对蒸发电镀，磁控溅射有如下的特点：

1．膜厚可控性和重复性好

2.薄膜与基片的附着力强

3.可以制备绝大多数材料的薄膜，包括合金，化合物等

4.膜层纯度高，致密

5.沉积速率低，设备也更复杂

磁控溅射镀膜按照电源类型可分为：直流溅射、中频溅射、射频溅射。

反应溅射的应用：

1.现代工业的发展需要应用到越来越多的化合物薄膜。

2.如光学工业中使用的TiO2、SiO2和TaO5等硬质膜。

3．电子工业中使用的ITO透明导电膜，真空电镀价格，SiO2、Si2N4和Al2O3等钝化膜、隔离膜、绝缘膜。

4.建筑玻璃上使用的ZNO、SnO2、TiO2、SiO2等介质膜

真空电镀：Vacuum Metalizing，即是物理气相沉积（PVD），即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。运用于光学镜片，如航海望远镜镜片，后来随着技术的改进，延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。除了自然材料以外，适合真空电镀的材料包括金属类材料、软硬塑料（ABS料、ABS+PC料、PC料等等）、复合材料、陶瓷、和玻璃等。常用于真空电镀表面处理的是铝、其次是银和铜。真空电镀所使用设备通常较为高昂，加上工艺流程复杂，对环境要求高；为此真空电镀单价比水电镀昂贵。真空电镀受设备内真空环境体积影响，因此对靶材尺寸有一定的要求，塘厦真空电镀，不适合大靶材，常见的真空腔室内靶材应小于1.2 * 1.1m（3.94 * 3.3ft），3D工件应小于1.2 * 0.5m（3.94 * 1.6ft）

真空电镀的工件表面必须保持干燥、光滑，真空电镀加工，否则会影响处理效果。真空电镀可镀色彩丰富，可以镀7色，比水电镀的颜色要丰富，可达到阳极铝、亮铬、金、银、铜和炮铜（一种铜锡合金）等丰富多彩的效果。水电镀一般只有镀铜（红色），镀镍（偏黄的银色），镀金，镀银，镀铬（银白色）等单调色彩。真空电镀是常见的金属表面处理技术。

离子镀

工艺关键词:真空气体放电、解离靶材、轰击基材

主要原理是利用气体放电现象，将薄膜材料解离成离子状态，而后沉积于基板上。

离子镀的基本镀膜系统为PVD系统，只是多加入反应性气体，使其与蒸发后的薄膜材料反应，真空电镀加工价格，而后沉积在基板上形成化合物，所以薄膜镀层的组成成分与原薄膜材料不同，是基材靶材的化合物。

离子镀基本上包括三个步骤 :

1. 将固态原子变成气态原子:可用真空蒸镀之各种蒸发源及各种溅射机制达到此一目的;

2. 将气态原子变成离子态，以提高原料的离子化程度(通常可达1%):可用各种离子元传送能量给原料原子，以达到始之离子化的程度;

3. 提升离子态原料所带的能量以提高薄膜的品质:可在基本上加上适当负偏压，以达到加速离子的能力。

离子镀原理

离子镀的特点如下:

1. 离子镀可在较低温度600度下进行;

2. 附着性良好;

3. 绕射性良好-带电原子能达到基本的所有表面而沉积镀层;

4. 沉积速度快，可达1~5um，而一般二级板型溅射速度只有0.01~1.0um/min;

5. 加工性及薄膜材料的选择性广，可加工除金属外，陶瓷，玻璃 ，塑胶均可，而薄膜材料的选择也很广泛，金属，合金，化合物皆可。