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发布时间:2022-01-26 03:43:00 作者:瑞泓科技
电弧或弧光放电的基本概念:电弧或弧光放电是气体放电的一种方法。气体放电在性质上和外观上是各式各样的。在正常状况下,气体有杰出的电气绝缘功用。但当在气体空位的两头加上足够大的电场时,就可以致使电流通过气体。这种现象称为放电。放电现象与气体的种类和压力、电极的资料和几何形状、南北极间的间隔以及加在空位两头的电压等要素有关。例如在正常状况下,给气体空位两头的电极加压到必定程度时,一般空气中电子在电场效果下高速运动,与气体分子磕碰后产生较多的电子和离子,真空电镀设备重生的电子和离子又同中性原子磕碰,产生更多的电子和离子,这时,气体开始发光,两电极变为火热,电流增大。这种性质上的改动称为气体空位的击穿,其所需的电压称为击穿电压。 这时,因为电场的支撑,放电并不中止,故称为自我按捺放电。电弧则是气体自我按捺放电的一种方法。电弧具有电流密度大和阴极电位下降的特征。
真空电镀生产厂家在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。蒸发镀膜通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜。这种方法早由M.法拉第于1857年提出,现代已成为常用镀膜技术之一蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源,待镀工件,如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后,加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间(或决定于装料量),并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜,常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程,以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1~0.2电子伏。
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