黄江七彩电镀表面处理承诺守信「瑞泓科技」

真空电镀早出现在上世纪八十年代末期，随着真空电镀的技术成熟，得到广泛的应用，如今的市场给真空电镀厂家带来了的发展机遇，真空电镀厂开始增加投资，紧紧抓住发展的机遇，提高真空电镀厂在行业中的竞争力。那么真空电镀有什么特点呢？以下将为您介绍真空电镀的三大特点：1、制作的产品和工艺符合国家环保要求2、应用范围广，可使用在很多不同材质的物体上，其在工件真空镀膜条件下涂上一层膜，可用在：如、钢、锌合金材料等。3、具有很好的颜色控制性，可以任意控制，外表鲜艳，有很强的金属质感。4、真空电镀的产品品质优异。一般情况下，普通的PC材质工件百格能达到4-5B，耐磨力达300圈。

1. 加强来料检查，对来料产品孔洞，砂眼，麻点，刮花，缺损及抛光效果严峻把关，强化前处理，去向产品表面的油污。2. 严峻把关加工流程操作，从产品挂架清洗到产品入炉电镀前，每道工序必须有QC品检OK方可实行下道工序。入炉前产品挂架要根据产品大小形状挑选合理挂具和挂架办法。3. 入炉真空电镀时间的把控，严峻按的时间，足分足秒，使电镀膜层抵达均匀统一。4. 产品出炉后由QC一一品检，检查产品色彩是否统一，有无遮挡或起泡变形现象。5. 对每一炉电镀产品进行48小时人工汗检验和耐磨检验。

真空电镀生产厂家在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。蒸发镀膜通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。