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pvd真空电镀技术是原材料生产加工的新技术应用，是金属表面处理技术领域的重要组成部分。pvd真空电镀技术是利用物理和有机化学将固体表面涂上的表面镀膜，使固体表面具有耐磨、耐热、耐腐蚀、、耐电磁辐射、导电、吸磁、绝缘层和装饰设计等优点。，比固体原材料本身更好，从而提高产品质量，延长商品使用寿命，节约资源，获得明显的技术经济效益。


真空电镀具有以下几个优点：1.广泛的积累数据：可积累铝、钛、锆等湿真空电镀不能积累的低电位金属，通过反应气体和合金靶材可积累从合金到陶瓷甚至金刚石的涂层，并可根据需要规划涂层系统。真空电镀与水电镀对比优缺点：水电镀因工艺较简单，从设备到环境得要求均有真空离子镀苛刻，从而被广泛应用。但水电镀有个弱点，只能镀ABS料和ABS+PC料（此料镀的效果也不是很理想）。


真空电镀具有以下优点：节约金属数据：由于真空涂层的附着力、致密性、硬度、耐腐蚀性等优点，积累的涂层可远小于传统的湿涂层，达到节约的目的。真空电镀与水电镀对比优缺点：两种工艺的优缺点：A、水电镀一般的镀层材质采用“六价铬”，这是非环保材料.对于“六价铬”有如下的要求：欧盟：ROHS：<1000ppm；76/769/EEC：禁止使用；94/62/EC：<100ppm。


真空电镀技术的精美处理，你值得拥有：VM：一般用在化妆品类、NB类、3C类、汽配类按键、装饰框、按键RING类饰品的表面处理，其表面效果与水电镀相媲美，靶材一般为铝、铜、锡、金、银等。NCVM：具有金属质感、透明，但不导电，一般用在通讯类、3C类对抗扰要较高的机壳、装饰框、按键件、RING类饰品的表面处理，其表面效果为水电镀不可取代，靶材一般为铟、铟锡。