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发布时间：2022-09-07 13:48:00 作者：瑞泓科技
按使用的原材料材质不同，溅射靶材可分为金属/非金属单质靶材、合金靶材、化合物靶材等。溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已成为制备薄膜材料的主要技术之一，各种类型的溅射薄膜材料已得到广泛的应用，因此，对溅射靶材这一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，溅射靶材亦已成为目前市场应用量较大的PVD 镀膜材料。
改善思路：基片本身的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本身可能是膜料匹配问题。
改善对策：
1、改进膜系，层不用氧化锆。
2、尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备工作。
3、真空室在更换护板、清洁后，好能空罩抽真空烘烤一下，更换的护板等真空室部件必须干燥、干净。
4、改善环境
5、妥善保护进罩前在伞片上的镜片，免受污染。
6、改善洗净、擦拭效果。
7、改善膜匹配（考虑层用Al2O3）
8、改善膜充氧和蒸发速率（降低）
9、加快前工程的流程。前工程对已加工光面的保护加强。
10、抛光加工完成的光面，必须立即清洁干净，不能有抛光粉或其他杂质附着干结。
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