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发布时间：2022-06-22 10:58:00 作者：瑞泓科技
真空镀膜磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击亚气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。
不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。
很多材料和零部件的功能如耐蚀、抗高温氧化性等均是由材料和零部件的表面层体现出来，在一般情况下可以采用某些具有特殊功能的化学镀镍层取代用其他方法制备的整体实心材料，也可以用廉价的基体材料化学镀镍代替有贵重原材料制造的零部件，因此，化学镀镍的经济效益是非常大的。
可沉积在各种材料的表面上，例如：钢镍基合金、锌基合金、玻璃、陶瓷、塑料、半导体等材料的表面上，从而为提高这些材料的性能创造了条件。
目前，在沿海地区大多是综合电镀加工厂，根据生产规模大小来设立生产计划(调度)、工艺管理、质量检验和成本管理专职人员，也可由公司或电镀厂部设立的上述专职部门直接对车间进行管理。为保证生产过程的连续性，电镀加工品从镀前处理、电镀、镀后处理，直到产品检验、计量、包装的整个生产过程中，应处于连续、正常地进行，消除或大限度地减少各种生产中不必要的间断或停顿，这样才能充分利用设备，有效控制工艺，尽可能减少生产中的消耗和不正常生产运转。
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